Китай отстаёт от мировых лидеров в разработке оборудования для EUV-литографии примерно на 15 лет. Такую оценку в эфире Bloomberg TV дал руководитель полупроводникового подразделения немецкой Zeiss Group Франк Ромунд.
Zeiss поставляет оптические компоненты для ASML — единственного в мире производителя литографических сканеров, работающих со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Эта технология нужна для массового выпуска чипов по техпроцессам 7 нм и тоньше, включая современные решения для искусственного интеллекта. Похожую оценку в 15 лет ранее давали аналитики UBS.
Готовое EUV-оборудование западного производства в Китай не поставляется из-за экспортных ограничений США и Нидерландов. Пекин работает над созданием собственных установок, но основное внимание пока уделяет более зрелой технологии DUV-литографии — экспериментальные китайские EUV-станки уступают западным аналогам и не готовы к массовому производству передовых чипов.
По словам Ромунда, дальнейшее ужесточение ограничений на поставку в Китай оборудования класса DUV подстегнёт китайские усилия по импортозамещению. Он отметил, что китайская промышленность работает над этой технологией десятилетиями, но Zeiss и ASML сохраняют преимущество: их оптические компоненты применяются при выпуске 80% чипов в мире.
